刻蝕機和光刻機的區別主要在：
1、工藝不同：刻蝕機是將硅片上多餘的部分腐蝕掉，光刻機是將圖形刻到硅片上；
2、難度不同：光刻機的難度和精度大於刻蝕機。
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刻蝕機和光刻機的區別 刻蝕機和光刻機的區別是什麼
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